基片尺寸:Φ5-Φ100mm 圆片,最大 100×100mm2方片
转速:250-9000RPM
旋涂工艺阶段:6 段
转速稳定性:<±1%
旋涂均匀性:<1%
匀胶机(涂胶机)用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO 导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆,具有转速稳定和启动迅速等优点,保证涂胶厚度的一致性和均匀性,30年来产品精心打造,独家技术国内市场占有率第一。
KW-4A匀胶机是一种小型、灵活和经济的晶圆底物旋转匀胶设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。不锈钢外壳比塑料或者镀漆金属更耐久和美观;工业级别200瓦伺服电机系统,采用于track设备相同设计和程序,使您的工艺更具有实际应用意义;同类产品中领先的最大达到50000RPM/S的旋转加速度,确保旋转匀胶的稳定和极高的可重复性。
技术参数及要求:
基片尺寸:Φ5-Φ100mm 圆片,最大 100×100mm2方片
转速:250-9000RPM
旋涂设置:任意阶段之间均可任意升降调节
转速稳定性:<±1%
旋涂均匀性:<1%
旋涂工艺阶段:6 段
旋涂时间:单步工艺 0-1800s,可根据客户需求调节
整机尺寸(长宽高):210mm×280mm×248mm
裸机尺寸(长宽高):210mm×280mm×155mm
电机功率:40W
适应材料:硅片、玻璃、石英、金属、GaAs、GaN、InP 等各种材料