2021-07-11
2023-11-28
Spin2000
用于在基底上通过溶液旋涂工艺沉积高平整度、致密、无针孔的钙钛矿薄膜,最大兼容100×100 mm方片; 最大转速≥10000rpm,转速控制精度≤±1rpm,加速度:Max≥10000rpm/sec; 包含基片自动对中机构;顶针升降基片;触摸屏操作(安装于手套箱外); 旋涂盆罩:SUS304不锈钢镀特氟龙涂层;包含一个自动开闭上罩; 真空吸盘平面度:≤±10μm;数显真空;旋转主轴:锻造轴承钢;无刷直流电机;整机嵌合集成于手套箱底板并支持机械手取放片。
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