PA200d
外形尺寸：1000mm×700mm×1000mm
腔室尺寸：Φ300mm×150mm
衬底规格：4-12寸单片
温度： RT-400 oC
真空室 | ||
|---|---|---|
| 描述 | 反应腔材质为316L不锈钢，底座整块材料加工，腔体表面抛光后电解； 密封方式：采用燕尾槽密封并配备耐腐蚀密封圈； 样品台尺寸：标准8英寸腔体，直径为200 mm；设备本底真空优于3 Pa；设备漏率≤ 5×10-10Pa·m3/s； 样品台加热温度最高可达400 oC，采用PID控制方式，控制精度为±1 oC； 反应腔配备自动充气及过压保护功能。 | |
| 体积 | 0.03m³ | |
| 真空系统 | ||
| 描述 | 采用 “机械泵”真空系统: | |
| 真空泵 | 规格：旋片真空泵, 配带油雾过滤器, 带气镇控制 流量：20m³/h, 双基片,真空度< 2 x 10-3 mbar 或干泵(可供选择) * 可选配干式真空泵 | |
| 工作电压 | AC230V/50-60Hz,10A或AC115V/50-60Hz,20 A（可供选择） | |
| 抽速 | 从大气抽至9×10-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气） | |
| 阀门 | 前GDQ-40高真空气动挡板阀； | |
| 真空测量 | 进口压力传感器，检测范围：5×10-4~1000 mbar； | |
| 真空测量 | 部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封； | |
前驱体输送系统 | ||
| 描述 | 前驱体数：一次同时可处理多达 5 个 ALD 前体源，三种有机金属或其他金属控制源，最高可达150℃，两个氧化剂/还原剂源，如水，双氧水，氧气或氨气等； | |
| 描述 | 1) 常温源1路，加热源2路，预留1路；预留1个臭氧接口； 2) 前驱体输送管路加热温度范围RT-250 oC，控制精度±1 oC； 3) 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料，所有气体管路连接处采用金属VCR密封；载气管路采用N2或者Ar气体，通过质量流量控制器控制；配备惰性气体自清洗系统，在控制界面中可以设置自动清洗的次数。 | |
常温源 | 阀门 | 配备三孔ALD阀门(响应时间＜5 ms)，源手动阀 |
| 源瓶 | 不锈钢源瓶(50 mL) | |
加热源 | 阀门 | 配备三孔ALD阀门(响应时间＜5 ms，阀体内置直径为1/8英寸加热器，温度范围RT-200 oC，源手动阀 |
| 源瓶 | 不锈钢源瓶(50 mL)，源瓶温度范围RT-200 oC | |
| 控制系统 | ||
| 描述 | 采用windows操作平台和cotrl1000控制系统，采用IPC+network技术，实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在PC上使用软件控制；提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面； | |
| 特点 | 系统可实现配方编辑、保存、读取等功能；所有ALD阀门具备自动排空功能，所有管线具备自动清洗功能； 系统设有高级界面，可进行温度PID参数自整定、前驱体标签修改等； 系统可实时显示加热状态、阀门开关状态、压力曲线、镀膜进度； 系统可实时监测动力气体压力值、系统压力值、加热状态、阀门开关状态等，当发生异常时触发报警并做出响应，报警日志可进行回看。 | |
选配 | ||
描述 | 臭氧发生器/粉末沉积盘/手套箱集成/ QCM /尾气处理装置。 | |
| 其他说明 | ||
| 产品认证 | ISO9001认证、CE认证、UL认证 | |
| 质保期 | 一年质保期，终身维修 | |
| 应用注意事项 | 详情参阅说明书危险、警告、注意等条款 | |
| 包装尺寸(W×D×H) | 1000×720×700mm | |
| 重量 | 500KG | |
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