腔室尺寸 360×500mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9个mask位置 每个基片对应3个位置

全自动控制软件

腔室尺寸 ≤300mm(L)×300mm(W)×500mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95%

基片尺寸 ≤100mm×100mm

有9个mask位置 每个基片对应3个位置

全自动控制软件

腔室尺寸 ≤400mm(L)×400mm(W)×600mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95%

基片尺寸 ≤135mm×135mm  

有19个mask位置 每个基片对应3个位置

腔室尺寸 ≤500mm(L)×500mm(W)×600mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95% 速率稳定性≥95%

基片尺寸 ≤156mm×156mm ≤30×30mm 数量4片

有12个mask位置 每个基片对应3个位置

腔室尺寸 ≤600mm(L)×600mm(W)×660mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95% 速率稳定性≥95%

基片尺寸 ≤210mm×210mm

蒸发源 4-12任意组合蒸发源

全自动控制软件

腔室尺寸 ≤700mm(L)×700mm(W)×800mm(H)

极限真空 ≤3×10^-5Pa 保压12小时 压强≤5Pa

膜厚均匀性 ≥95% 重复性 ≥95% 速率稳定性≥95%

基片尺寸 ≤2300mm×300mm

蒸发源 4-12任意组合蒸发源

全自动控制软件